高純氮氣發(fā)生器是一種以空氣為原料，經(jīng)過壓縮、凈化、分離等步驟，生產(chǎn)出高純度氮氣的設(shè)備。其技術(shù)原理主要包括以下步驟：

 

　　1.空氣壓縮：將空氣經(jīng)過壓縮機壓縮，使其壓力提高到10-12kg/cm²；

 

　　2.空氣凈化：將壓縮后的空氣進行除塵、除油、干燥等凈化處理；

 

　　3.空氣分離：將凈化處理后的空氣進行分離，得到氮氣和氧氣；

 

　　4.氮氣提純：將得到的氮氣進行提純處理，去除其中的氧氣、水蒸氣等雜質(zhì)，得到高純度氮氣。

 

　　隨著科技的不斷發(fā)展，半導體行業(yè)對高純氮氣的需求量越來越大，對其純度、穩(wěn)定性和供應(yīng)量的要求也越來越高。因此，高純氮氣發(fā)生器在半導體制造中的應(yīng)用前景非常廣闊。

 

　　1.高純氮氣是CVD工藝的重要原料。在半導體制造中，CVD工藝是制備薄膜材料的重要手段之一。高純氮氣作為CVD工藝的氮源，其質(zhì)量和穩(wěn)定性直接影響到薄膜的質(zhì)量和性能。因此，高純氮氣發(fā)生器可以作為CVD工藝的重要設(shè)備，為半導體制造提供穩(wěn)定、高質(zhì)量的氮氣。

 

　　2.高純氮氣可以保護芯片免受氧化。在半導體制造中，芯片是非常脆弱的，需要經(jīng)過多個運輸、儲存和使用環(huán)節(jié)。在這些環(huán)節(jié)中，芯片很容易受到外界環(huán)境的影響，特別是氧氣的影響。高純氮氣作為一種惰性氣體，可以作為保護氣體，有效地隔絕芯片與外界環(huán)境的接觸，避免芯片在運輸、儲存和使用過程中被氧化。

 

　　3.高純氮氣可以用于刻蝕工藝。在半導體制造中，刻蝕工藝是制備微納米結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵手段之一。高純氮氣可以作為刻蝕氣體，有效地去除芯片表面上的雜質(zhì)和污染物，提高芯片的表面質(zhì)量和性能。

 

　　4.高純氮氣可以用于太陽能電池制備。除了半導體制造外，太陽能電池也是高純氮氣的重要應(yīng)用領(lǐng)域之一。在太陽能電池制備中，高純氮氣可以作為保護氣體和摻雜氣體等，提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率和穩(wěn)定性。